含光刻胶的废液的处理
专利权的终止(专利权有效期届满)
摘要
自印刷电路板制造业、印刷业、半导体制造业以及其他使用光刻胶的工业排放的含光刻胶的废液的处理，是将废液进行特定性能的超滤，以便分离高分子量的有机废料，从再循环或回收的渗透液的有效组分中弃掉，产生有效的工序。本发明提供溶有光刻胶的废液处理方法是将溶有光刻胶的废液用特定性能的超滤进行浓缩，然后将其用辐射或热能进行聚合或固化，产生含有聚合物和水的固化物质。其能量是通过燃烧所得到的固化物质而取得的。
基本信息
专利标题 ：
含光刻胶的废液的处理
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN87105308A
申请号 ：
CN87105308.X
公开（公告）日 ：
1988-02-03
申请日 ：
1987-07-23
授权号 ：
CN1010555B
授权日 ：
1990-11-28
发明人 ：
三木康平斋藤博
申请人 ：
住友重机械工业株式会社
申请人地址 ：
日本东京
代理机构 ：
中国国际贸易促进委员会专利代理部
代理人 ：
徐汝巽
优先权 ：
CN87105308.X
主分类号 ：
B01D61/14
IPC分类号 ：
B01D61/14
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B01
一般的物理或化学的方法或装置
B01D61/00
利用半透膜分离的方法，例如渗析，渗透，超滤；其专用设备，辅助设备或辅助操作
B01D61/14
超滤；微量过滤
法律状态
2008-04-23 ：
专利权的终止(专利权有效期届满)
2002-03-20 ：
其他有关事项
1991-08-07 ：
授权
1990-11-28 ：
审定
1989-11-22 ：
实质审查请求
1988-02-03 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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