一种光刻胶软烘干装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种光刻胶软烘干装置，涉及光刻设备技术领域，解决了目前涂胶晶片在烘箱内烘干时，涂胶晶片受热不均匀，造成烘干不彻底，使得薄膜与垫底的粘附度不足，同时部分晶片热板直接接触加热时，极易造成晶片爆裂，造成成品率底下的问题，其技术方案要点是：包括开口设置的烘箱主体，烘箱主体开口的两端对称设置有可将烘箱主体的开口封住的两个箱盖；烘箱主体的内部设置有隔温层，隔温层的顶端在两个箱盖合上时与箱盖的端部相抵触；烘箱的底端内壁和两个箱盖的下端面分别设置有位于烘干仓和冷却仓内部的加热器和冷却器；烘箱主体的内部还水平设置有与隔温层转动连接的转盘；达到提高产品成品率的效果。
基本信息
专利标题 ：
一种光刻胶软烘干装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202022439578.0
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-10-28
授权号 ：
CN213023934U
授权日 ：
2021-04-20
发明人 ：
范传新王晓伟
申请人 ：
苏州理硕科技有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市中国(江苏)自由贸易试验区苏州片区苏州工业园区金鸡湖大道99号苏州纳米城10幢102室
代理机构 ：
成都明涛智创专利代理有限公司
代理人 ：
毕雅凤
优先权 ：
CN202022439578.0
主分类号 ：
G03F7/16
IPC分类号 ：
G03F7/16
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/16
涂层处理及其设备
法律状态
2021-04-20 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
