本发明涉及光刻材料技术领域，特别是涉及一种正性光刻胶、光刻胶层及其制备方法、光刻工艺。本发明通过选用聚酰胺作为原料，并在其芳环上修饰羟基，以调整聚酰胺在光刻胶溶剂中的溶解性，且可以提供与交联剂反应的位点。聚酰胺树脂与交联剂的反应产物溶解性下降，被固化于基材表面形成胶膜；光刻过程中，曝光部分的光酸发生剂产生光酸，使得架桥解离，再次变成可以被碱性显影液洗去的聚酰胺和交联剂，从而使未曝光部分的图案得以保留。由于聚酰胺与交联剂形成的架桥作用力较弱，即使是较弱的光酸产生剂也能适用于本发明的方案，从而拓宽了光刻胶成品的应用范围；而且，由于光刻胶结构中引入了聚酰胺，光刻胶成品膜的耐热性能有明显的提升。