一种ArF光刻胶成膜树脂及其制备方法和光刻胶组合物

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摘要

本发明公开了一种ArF光刻胶成膜树脂及其制备方法和光刻胶组合物，包含如式I所示无规共聚物结构：其中n、m、x、y和z为单体的摩尔占比，0＜n≤0.3，0＜m≤0.5，0＜x≤0.2，0＜y≤0.8，0＜z≤0.1，n+m+x+y+z＝1；R₁、R₂、R₃、R₄和R₅为H、CH₃或CH₂CH₃。一种光刻胶组合物，包括上述成膜树脂5～30％，其余为有机溶剂。本发明将光致产酸剂和酸扩散抑制剂同时引入到成膜树脂中，能很好的控制光致产酸剂和酸扩散抑制剂均匀地分布，从而提高光刻胶的灵敏度(≤42mJ/cm²)、分辨率(≤90nm)。此外，由于各单体的引入还可以改善光刻胶的成膜能力和粘附性。

基本信息

专利标题：

一种ArF光刻胶成膜树脂及其制备方法和光刻胶组合物

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN113214429A

申请号：

CN202110466795.5

公开（公告）日：

2021-08-06

申请日：

2021-04-28

授权号：

CN113214429B

授权日：

2022-04-12

发明人：

季生象刘亚栋李小欧顾雪松

申请人：

中科院长春应化所黄埔先进材料研究院

申请人地址：

广东省广州市黄埔区连云路388号

代理机构：

广州市华学知识产权代理有限公司

代理人：

宫爱鹏

优先权：

CN202110466795.5

主分类号：

C08F220/18

IPC分类号：

C08F220/18 C08F220/28 C08F220/32 C08F220/38 C08F220/34 G03F7/004