一种深紫外正性光刻胶及其成膜树脂，在一般以聚对羟基苯乙烯为基础的成膜树脂配方中引入了可以与之共聚合的含硅的丙烯酸酯类偶联剂，进行共聚合制备成一类新的成膜树脂。这种新的成膜树脂与光致酸、溶剂、以及其他添加剂组成光刻胶后，由于含硅丙烯酸酯类偶联剂单元的作用，增加了光刻胶与硅片之间的粘结性能。同时，也改善了抗干刻蚀的性能。即由于含硅的丙烯酸酯类偶联剂单元在成膜树脂中的存在，其硅片上的光刻胶胶膜在光刻过程中，在非曝光区，偶联剂中的Si－OR基团将减少胶膜在显影液中的溶解性，曝光区在光致酸形成的强酸作用下，偶联剂中Si－OR基团分解形成Si－OH而增加胶膜在碱性显影液中的溶解性，而这样就增加了曝光区与非曝光区对比度，而形成更加清晰的光刻图形。