本发明涉及一种高残膜率正型光刻胶组合物及其合成方法和固化膜，高残膜率正型光刻胶组合物包括包括有机溶剂和溶解在溶剂中的10wt%至70wt%溶质，溶质包括含氟烷烃和硅氧烷基团的丙烯酸共聚物、硅氧烷共聚物和1,2‑二叠氮醌类化合物，其中含氟烷烃和硅氧烷基团的丙烯酸共聚物为100重量份，1,2‑二叠氮醌类化合物为2‑30重量份。本发明的高残膜率正型光刻胶组合物包含丙烯酸共聚物和硅氧烷共聚物，合成固化膜时丙烯酸共聚物和硅氧烷共聚物共同作为粘合剂，该丙烯酸共聚物同时含有硅氧烷基团和氟烷烃，提高了光刻胶组合物的残膜率，同时，由该光刻胶组合物制成的固化膜，浸没在溶剂、酸或碱中或与溶剂、酸或碱接触时，有效改善了溶胀或膜与衬底出现分层的问题。