本发明提供一种成膜装置，其特征在于，具有：内部能够抽真空的纵型的筒状的处理容器；多段地保持多个被处理体，并且能够插拔于前述处理容器内的被处理体保持机构；设在前述处理容器的周围的加热机构；向前述处理容器内供给不含卤素的硅烷类气体的硅烷类气体供给机构；向前述处理容器内供给氮化气体的氮化气体供给机构；通过等离子体使前述氮化气体活性化的活性化机构；以及为了在前述被处理体上形成规定的薄膜，按照一边同时向前述处理容器内供给前述硅烷类气体和前述氮化气体一边使前述氮化气体活性化的方式，控制前述硅烷类气体供给机构、前述氮化气体供给机构和前述活性化机构的控制机构。