成膜方法和成膜装置
实质审查的生效
摘要
在成膜室(2a)的内部至少设置蒸镀材料和基板(S)，通过排气和/或提供不改变所述蒸镀材料的组成的气体，将成膜室(2a)的内部的包含基板(S)的第1区域(A)设定为0.05Pa～100Pa的气氛，将成膜室(2a)的内部的包含蒸镀材料的第2区域(B)设定为0.05Pa以下的气氛，在上述的状态下，通过真空蒸镀法，在第2区域(B)中使蒸镀材料蒸发，在第1区域(A)中将蒸发出的蒸镀材料成膜在基板(S)上，并且在第1区域(A)中向基板(S)照射离子。
基本信息
专利标题 ：
成膜方法和成膜装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114514335A
申请号 ：
CN202080064503.9
公开（公告）日 ：
2022-05-17
申请日 ：
2020-10-09
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
室谷裕志宫内充祐大泷芳幸长谷川友和松平学幸
申请人 ：
学校法人东海大学;株式会社新柯隆
申请人地址 ：
日本东京都
代理机构 ：
北京三友知识产权代理有限公司
代理人 ：
杨俊波
优先权 ：
CN202080064503.9
主分类号 ：
C23C14/24
IPC分类号 ：
C23C14/24 C23C14/54
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
法律状态
2022-06-03 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 14/24
申请日 : 20201009
申请日 : 20201009
2022-05-17 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
