成膜装置、成膜方法

专利权的终止

摘要

本发明提供一种能够可靠地得到多个膜图案的成膜装置及成膜方法。本发明的成膜装置，其特征在于，具有：掩模部件，其由硅构成并具有所定图案的第1开口部(31)；磁性部件(4)，其由磁性材料构成并具备第(2)开口部(41)，以在该第(2)开口部(31)的俯视内侧配设上述第1开口部的方式与上述掩模部件(3)对位而成；基板夹持用部件(1)，其在与上述磁性部件(4)之间从该磁性部件(4)侧依次夹持上述掩模部件(3)和被成膜基板(2)，同时通过在该磁性部件(4)之间所产生的磁力将上述掩模部件(3)和上述被成膜基板(2)密接。

基本信息

专利标题：

成膜装置、成膜方法

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN1834282A

申请号：

CN200610005914.2

公开（公告）日：

2006-09-20

申请日：

2006-01-19

授权号：

暂无

授权日：

暂无

发明人：

四谷真一金丸真二

申请人：

精工爱普生株式会社

申请人地址：

日本东京

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司

代理人：

李香兰

优先权：

CN200610005914.2

主分类号：

C23C14/04

IPC分类号：

C23C14/04 C23C18/06 H01L21/768 H01L21/283 H01L21/3205 H05B33/10