用于浸没式光刻胶的含氟化合物及其制备方法、光刻胶

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摘要

本发明提供了一种用于浸没式光刻胶的含氟化合物及其制备方法，该方法包括：在反应容器中加入预备化合物、4‑二甲氨基吡啶、l‑乙基‑(3‑二甲基氨基丙基)碳二亚胺盐酸盐以及三氯甲烷，混合均匀形成反应体系；向反应体系中滴加N,N‑二甲基丙二胺，反应生成含氟化合物；其中，预备化合物的化学结构为n≧1，为整数。本发明还提供一种添加含氟化合物的浸没式光刻胶。采用本技术方案提供的制备工艺制作出的含氟化合物，添加至光刻胶中能够防止纯水中的杂质污染光刻机镜头，有效降低杂质对镜头的污染。采用本发明提供的技术方案替代现有的加疏水层的配方，具有工艺简单、生产周期短、生产效率得到提高、节约生产成本等优点。

基本信息

专利标题：

用于浸没式光刻胶的含氟化合物及其制备方法、光刻胶

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN112898185A

申请号：

CN202110110177.7

公开（公告）日：

2021-06-04

申请日：

2021-01-26

授权号：

CN112898185B

授权日：

2022-06-03

发明人：

马潇周浩杰杨平原夏正建李庆伟杨鑫楷岳力挽顾大公毛智彪许从应

申请人：

宁波南大光电材料有限公司

申请人地址：

浙江省宁波市北仑区柴桥街道青山路21号

代理机构：

深圳盛德大业知识产权代理事务所(普通合伙)

代理人：

贾振勇

优先权：

CN202110110177.7

主分类号：

C07C273/18

IPC分类号：

C07C273/18 C07C275/52 G03F7/004