基于二茂金属化合物的光刻胶及其制备方法和应用
授权
摘要
本发明属于光刻胶技术领域，具体涉及基于二茂金属化合物的光刻胶及其制备方法和应用。本发明的二茂金属化合物采用金属为中心核结构，因此具有较高的熔点和玻璃化转变温度，能够满足光刻技术要求，且结构稳定，在高温烘烤中薄膜结构无变化。此外，本发明的光刻胶组合物可以用于248nm光刻、193nm光刻、极紫外(EUV)光刻、纳米压印光刻(NIL)和电子束光刻(EBL)等现代光刻工艺中。尤其适合使用于极紫外(EUV)光刻工艺中。
基本信息
专利标题 ：
基于二茂金属化合物的光刻胶及其制备方法和应用
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN112830944A
申请号 ：
CN201911167289.5
公开（公告）日 ：
2021-05-25
申请日 ：
2019-11-25
授权号 ：
CN112830944B
授权日 ：
2022-05-06
发明人 ：
杨国强玉佳婷陈龙王亚飞郭旭东胡睿王双青
申请人 ：
中国科学院化学研究所
申请人地址 ：
北京市海淀区中关村北一街2号
代理机构 ：
北京知元同创知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
刘元霞
优先权 ：
CN201911167289.5
主分类号 ：
C07F17/00
IPC分类号 ：
C07F17/00 C07F17/02 G03F7/039
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C07
有机化学
C07F
含除碳、氢、卤素、氧、氮、硫、硒或碲以外的其他元素的无环，碳环或杂环化合物
C07F17/00
茂金属
法律状态
2022-05-06 ：
授权
2021-06-11 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C07F 17/00
申请日 : 20191125
申请日 : 20191125
2021-05-25 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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