一种二茂金属化合物的分子玻璃光刻胶及其制备方法
实质审查的生效
摘要
本发明公开一种二茂金属化合物的分子玻璃光刻胶及其制备方法，属于半导体微电子化学技术领域。所述分子玻璃光刻胶含有分子玻璃成膜树脂、光致产酸剂（PAG）、助剂和溶剂。所述分子玻璃成膜树脂是式（Ⅰ）所示，以二茂金属化合物为核，二个胆酸衍生物为支链的单分子树脂。本发明的分子玻璃成膜树脂分子量单一，玻璃化温度（Tg）高；以该成膜树脂配合光致产酸剂（PAG）所制得的正型光刻胶可以用于248nm（KrF）、193nm（ArF）、极紫外(EUV)、纳米压印(NIL)和电子束(EBL)等光刻工艺中。另外本发明所采用的核心原料二茂金属化合物以及胆酸衍生物均源于国产，可以从源头上彻底解决半导体光刻胶及其原料的卡脖子问题。
基本信息
专利标题 ：
一种二茂金属化合物的分子玻璃光刻胶及其制备方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114442429A
申请号 ：
CN202210147575.0
公开（公告）日 ：
2022-05-06
申请日 ：
2022-02-17
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
曾伟
申请人 ：
南通林格橡塑制品有限公司
申请人地址 ：
江苏省南通市海安市曲塘镇双工路29号
代理机构 ：
连云港中联润智专利商标代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 ：
严敏
优先权 ：
CN202210147575.0
主分类号 ：
G03F7/004
IPC分类号 ：
G03F7/004 C07J9/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/004
感光材料
法律状态
2022-05-24 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/004
申请日 : 20220217
申请日 : 20220217
2022-05-06 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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