光刻胶再生方法及其系统

专利权的终止

摘要

本发明涉及一种光刻胶再生及其系统，利用低温浓缩抽离回收光刻胶溶液中的清洗溶剂，使其固含量达到原生光刻胶固含量以上，再经过滤装置除去回收光刻胶中的粒状物后，并添加光刻胶稀释剂以调整回收光刻胶的固含量及黏度使膜厚预测值接近原生光刻胶，以获得可再利用的再生光刻胶。经本发明的方法浓缩过后的再生光刻胶挥发性降低，有助于改善其涂布于基板时四角偏厚的现象。

基本信息

专利标题：

光刻胶再生方法及其系统

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN101042529A

申请号：

CN200610065829.5

公开（公告）日：

2007-09-26

申请日：

2006-03-23

授权号：

暂无

授权日：

暂无

发明人：

赖庆智冯桂森黄纬苓杨炎胜朱志弘吴橞淂邓纯祯刘展睿陈铭恩陈志慧

申请人：

财团法人工业技术研究院

申请人地址：

台湾省新竹县

代理机构：

北京三友知识产权代理有限公司

代理人：

任默闻

优先权：

CN200610065829.5

主分类号：

G03F7/00

IPC分类号：

G03F7/00