检测光刻胶图案上的印刷缺陷的方法
授权
摘要
一种检测光刻胶图案的缺陷的方法包括产生光刻胶图案的表面的扫描电子显微镜(SEM)图像以及与光刻胶图案的表面的像素位置相关的信号强度数据。该方法还包括设置下参考强度阈值和上参考强度阈值，所述下参考强度阈值和上参考强度阈值用作用于检测缺陷的参考值。该方法还包括将具有比下参考强度阈值小或比上参考强度阈值大的信号强度值的信号强度数据的像素位置分类为缺陷位置。
基本信息
专利标题 ：
检测光刻胶图案上的印刷缺陷的方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN111142338A
申请号 ：
CN201910773184.8
公开（公告）日 ：
2020-05-12
申请日 ：
2019-08-21
授权号 ：
CN111142338B
授权日 ：
2022-04-05
发明人 ：
朴畯泽
申请人 ：
爱思开海力士有限公司
申请人地址 ：
韩国京畿道
代理机构 ：
北京弘权知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
王建国
优先权 ：
CN201910773184.8
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-04-05 ：
授权
2020-06-05 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/20
申请日 : 20190821
申请日 : 20190821
2020-05-12 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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