关于重复矩阵型图案缺陷的检测方法
实质审查的生效
摘要

本发明公开了一种关于重复矩阵型图案缺陷的检测方法,其包括以下步骤:步骤一,首先对晶圆进行预扫描,确认重复矩阵图案密集区的走向;步骤二,改变扫描方向,保持扫描方向与重复矩阵图案走向平行,保证收集更多的散射光,使缺陷在偏振光下能够产生并增强信号强化缺陷信号;步骤三,运用傅立叶滤光器并通过相干衍射的原理,减少背景噪扰,更大程度的弱化背景从而增强信号。本发明对于重复矩阵型图案中小尺寸的缺陷具有较强的抓获能力,可以提高缺陷的信噪比,在当站检测出该种类型的缺陷进行工艺优化,降低低良风险。

基本信息
专利标题 :
关于重复矩阵型图案缺陷的检测方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114267603A
申请号 :
CN202111471986.7
公开(公告)日 :
2022-04-01
申请日 :
2021-12-06
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
刘青青米琳宁威
申请人 :
华虹半导体(无锡)有限公司
申请人地址 :
江苏省无锡市新吴区新洲路30号
代理机构 :
上海浦一知识产权代理有限公司
代理人 :
刘昌荣
优先权 :
CN202111471986.7
主分类号 :
H01L21/66
IPC分类号 :
H01L21/66  
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/66
在制造或处理过程中的测试或测量
法律状态
2022-04-19 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01L 21/66
申请日 : 20211206
2022-04-01 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
  • 联系电话
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332
  • 联系 Q Q
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332
  • 关注微信
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332
  • 收藏
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332