一种光刻胶剥离液及其制备方法、应用方法
实质审查的生效
摘要
本申请提供了一种光刻胶剥离液及其制备、应用方法，所述光刻胶剥离液包括以下重量份数的各组分：50‑75份的有机胺，0.01‑3份的表面活性剂，0.01‑3份的金属保护剂，25‑50份的有机溶剂；其中，所述金属保护剂包括山梨酸盐、醋酸氯乙啶中的至少一种；所述表面活性剂包括脂肪醇聚氧乙烯醚、脂肪醇聚氧乙烯醚硫酸盐、重烷基苯磺酸钠中的至少一种。该光刻胶剥离液的剥离速度较快，剥离净度高，且对基板中的金属无腐蚀效应，尤其是在剥离后的水洗工序中，该光刻胶剥离液对基板中的金属无二次腐蚀效应。
基本信息
专利标题 ：
一种光刻胶剥离液及其制备方法、应用方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114509927A
申请号 ：
CN202111404444.8
公开（公告）日 ：
2022-05-17
申请日 ：
2021-11-24
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
王维潘春林李自杰林秋玉
申请人 ：
福建中安高新材料研究院有限公司
申请人地址 ：
福建省福州市鼓楼区软件大道89号福州软件园G区13号楼二层201室
代理机构 ：
广州三环专利商标代理有限公司
代理人 ：
熊永强
优先权 ：
CN202111404444.8
主分类号 ：
G03F7/42
IPC分类号 ：
G03F7/42
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/26
感光材料的处理及其设备
G03F7/42
剥离或剥离剂
法律状态
2022-06-03 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/42
申请日 : 20211124
申请日 : 20211124
2022-05-17 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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