一种厚膜光刻胶组合物，其制备方法及应用
公开
摘要
本发明公开了一种厚膜光刻胶组合物，其制备方法和应用。本发明的光刻胶组合物，其包括以下组分：树脂、光致产酸剂和溶剂。本发明的光刻胶组合物形成的胶膜具有好的性能，具有好的应用前景。
基本信息
专利标题 ：
一种厚膜光刻胶组合物，其制备方法及应用
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114563918A
申请号 ：
CN202011360489.5
公开（公告）日 ：
2022-05-31
申请日 ：
2020-11-27
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
王溯耿志月崔中越唐晨薛新斌王世建王志勇黄桂华李清华
申请人 ：
上海新阳半导体材料股份有限公司
申请人地址 ：
上海市松江区思贤路3600号
代理机构 ：
上海弼兴律师事务所
代理人 ：
王卫彬
优先权 ：
CN202011360489.5
主分类号 ：
G03F7/004
IPC分类号 ：
G03F7/004 C08F220/32 C08F212/14 C08F232/08 C08F220/36
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/004
感光材料
法律状态
2022-05-31 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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