图形形成材料以及图形形成装置和图形形成方法
发明专利申请公布后的驳回
摘要

本发明提供即使是高感度的感光层也能够同时具有优异的显像性和粘性、而且通过抑制感光层上成像的像的变形可以高精细地且高效地形成适于制造含有封装基板的印刷配线基板等的图形、半导体领域中的高精细的永久图形的图形形成材料以及图形形成方法和图形。因此,提供一种图形形成材料,所述图形形成材料至少具有使用感光性组合物得到的感光层,所述感光性组合物至少含有:环氧丙烯酸酯化合物的至少1种和侧链具有丙烯酰基和酸性基团的乙烯基共聚物的至少1种的粘合剂、聚合性化合物、光聚合引发剂和热交联剂,在对该感光层进行曝光、显像时,在该曝光和显像后不使所述感光层曝光的部分的厚度发生变化的所述曝光中所使用的光的最小能量为0.1~80mJ/cm2

基本信息
专利标题 :
图形形成材料以及图形形成装置和图形形成方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN101137937A
申请号 :
CN200680007540.6
公开(公告)日 :
2008-03-05
申请日 :
2006-01-11
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
若田裕一林利明高柳丘
申请人 :
富士胶片株式会社
申请人地址 :
日本国东京都
代理机构 :
中科专利商标代理有限责任公司
代理人 :
朱丹
优先权 :
CN200680007540.6
主分类号 :
G03F7/004
IPC分类号 :
G03F7/004  G03F7/027  G03F7/038  G03F7/20  H01L21/027  H05K3/00  
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/004
感光材料
法律状态
2012-03-21 :
发明专利申请公布后的驳回
号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101303547916
IPC(主分类) : G03F 7/004
专利申请号 : 2006800075406
公开日 : 20080305
2008-05-07 :
实质审查的生效
2008-03-05 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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