化学放大型光刻胶组合物
专利权的终止
摘要
本发明提供一种化学放大型光刻胶组合物，其包含处理过的树脂(1)、酸生成剂和溶剂，其中树脂(1)是：(a)(甲基)丙烯酸类树脂，其不溶于或难溶于碱性水溶液，并且通过酸的作用变得可溶于碱性水溶液，并且其包含在它的侧链中含有脂环族烃基的重复单元；或(b)苯乙烯类树脂，其不溶于或难溶于碱性水溶液，并且通过酸的作用变得可溶于碱性水溶液，并且其包含衍生自羟基苯乙烯的重复单元，并且其中处理过的树脂(1)是通过下面的方法得到的：(A)在40至90℃下粗树脂(1)与活性碳接触，得到半处理的粗树脂(1)，和半处理的粗树脂(1)与选自硅藻土和硅胶中的至少一个成员接触，或(B)在40至90℃下粗树脂(1)与活性碳和选自硅藻土和硅胶中的至少一个成员接触。
基本信息
专利标题 ：
化学放大型光刻胶组合物
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1755523A
申请号 ：
CN200510106482.X
公开（公告）日 ：
2006-04-05
申请日 ：
2005-09-26
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
山本敏花元幸夫桑名耕治
申请人 ：
住友化学株式会社
申请人地址 ：
日本国东京都
代理机构 ：
中科专利商标代理有限责任公司
代理人 ：
陈平
优先权 ：
CN200510106482.X
主分类号 ：
G03F7/004
IPC分类号 ：
G03F7/004 G03F7/038 G03F7/033
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/004
感光材料
法律状态
2014-11-12 ：
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101588383148
IPC(主分类) : G03F 7/004
专利号 : ZL200510106482X
申请日 : 20050926
授权公告日 : 20111123
终止日期 : 20130926
号牌文件序号 : 101588383148
IPC(主分类) : G03F 7/004
专利号 : ZL200510106482X
申请日 : 20050926
授权公告日 : 20111123
终止日期 : 20130926
2011-11-23 ：
授权
2007-09-19 ：
实质审查的生效
2006-04-05 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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2、
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