含有树脂掺合物的光刻胶组合物
授权
摘要
本发明提供含有光敏组分和至少两种不同的树脂的掺合物的新的正性光刻胶组合物，所述至少两种不同的树脂为：i)含有杂取代(尤其是羟基或巯基)的碳环芳基单元的第一树脂，和ii)第二交联的树脂。本发明优选的光刻胶可以用短波(例如小于200纳米，特别是193纳米)成像。
基本信息
专利标题 ：
含有树脂掺合物的光刻胶组合物
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1821878A
申请号 ：
CN200610005454.3
公开（公告）日 ：
2006-08-23
申请日 ：
2006-01-19
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
C·－B·徐鈴木泰弘
申请人 ：
罗门哈斯电子材料有限公司
申请人地址 ：
美国马萨诸塞州
代理机构 ：
上海专利商标事务所有限公司
代理人 ：
沙永生
优先权 ：
CN200610005454.3
主分类号 ：
G03F7/038
IPC分类号 ：
G03F7/038 G03F7/039 G03F7/20 H01L21/027
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/004
感光材料
G03F7/038
高分子化合物被制备成不溶解的或非均匀可湿的
法律状态
2011-05-25 ：
授权
2006-10-18 ：
实质审查的生效
2006-08-23 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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