光刻装置以及光刻装置的基底调整方法
公开
摘要
本发明公开了一种光刻装置以及光刻装置的基底调整方法，所述光刻装置包括工件台和辊轮台，所述辊轮台用于传送基底至所述工件台上，所述工件台包括基底调整装置，所述基底调整装置用于调整基底在基底工位上的Rz方向位置，所述基底调整装置包括若干个吸附旋转模块、若干个夹持模块以及若干个驱动模块，当基底发生Rz方向偏移时，所述吸附旋转模块支撑若干个基底，所述夹持模块夹持基底，并带动基底绕所述吸附旋转模块转动，以此可以调整基底在基底工位上的Rz方向位置。
基本信息
专利标题 ：
光刻装置以及光刻装置的基底调整方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114609869A
申请号 ：
CN202011412052.1
公开（公告）日 ：
2022-06-10
申请日 ：
2020-12-03
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
陈雄宋光辉李新振
申请人 ：
上海微电子装备（集团）股份有限公司
申请人地址 ：
上海市浦东新区张东路1525号
代理机构 ：
上海思捷知识产权代理有限公司
代理人 ：
王宏婧
优先权 ：
CN202011412052.1
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-06-10 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
