一种光刻机基底架的精密抛光装置
授权
摘要

本实用新型公开了一种光刻机基底架的精密抛光装置,包括箱体,箱体内固定安装有吸尘设备、电机和冷风机,箱体的顶部开设有圆孔、吸尘孔和冷风孔,圆孔内固定安装有轴承,轴承的一端固定连接有电机的传动轴,轴承的另一端固定安装有旋转轴,旋转轴的一端固定安装在有磨盘,箱体上固定连接有环形挡板,环形挡板内壁上固定连接有环形卡条,箱体上还固定连接有弹簧支撑柱,弹簧支撑柱的一端固定连接有盖板,盖板的两侧固定连接有挂钩,盖板的底部固定连接有橡胶压板;本申请,能够对圆架进行密封打磨,避免粉尘飞扬,避免了粉尘对操作人员造成身体伤害,避免了浪费水资源和避免了圆架与水接触氧化,增加了基底架的使用寿命。

基本信息
专利标题 :
一种光刻机基底架的精密抛光装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202022369790.4
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-10-22
授权号 :
CN213615973U
授权日 :
2021-07-06
发明人 :
胡志华何平
申请人 :
苏州航菱微精密组件有限公司
申请人地址 :
江苏省苏州市吴江经济技术开发区吉市西路688号
代理机构 :
代理人 :
优先权 :
CN202022369790.4
主分类号 :
B24B29/02
IPC分类号 :
B24B29/02  B24B7/10  B24B55/06  B24B55/02  B24B47/12  B24B41/06  
IPC结构图谱
B
B部——作业;运输
B24
磨削;抛光
B24B
用于磨削或抛光的机床、装置或工艺(用电蚀入B23H;磨料或有关喷射入B24C;电解浸蚀或电解抛光入C25F3/00;磨具磨损表面的修理或调节;磨削,抛光剂或研磨剂的进给
B24B29/00
有或没有使用固体或液体抛光剂并利用柔软材料或挠性材料制作的工具进行工件表面抛光的机床或装置
B24B29/02
适用于特殊工件的
法律状态
2021-07-06 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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