基底基板、功能元件及基底基板的制造方法
授权
摘要
提供一种基底基板(6)，其具备支撑基板(1)、和设置在支撑基板(1)的主面(1a)上的基底结晶层(3)，其中该基底结晶层(3)由13族元素氮化物结晶构成、且具有结晶培养面(3a)。基底结晶层(3)具备隆起部(5)。在隆起部(5)与支撑基板(1)之间存在有支撑基板(1)的材质与13族元素氮化物结晶的反应物、13族金属和/或空隙。
基本信息
专利标题 ：
基底基板、功能元件及基底基板的制造方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN111094637A
申请号 ：
CN201880059294.1
公开（公告）日 ：
2020-05-01
申请日 ：
2018-07-03
授权号 ：
CN111094637B
授权日 ：
2022-04-22
发明人 ：
坂井正宏大上翔平后藤万佐司吉野隆史
申请人 ：
日本碍子株式会社
申请人地址 ：
日本国爱知县
代理机构 ：
北京旭知行专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
王轶
优先权 ：
CN201880059294.1
主分类号 ：
C30B29/38
IPC分类号 ：
C30B29/38
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C30
晶体生长
C30B
单晶生长；共晶材料的定向凝固或共析材料的定向分层；材料的区熔精炼；具有一定结构的均匀多晶材料的制备；单晶或具有一定结构的均匀多晶材料；单晶或具有一定结构的均匀多晶材料之后处理；其所用的装置
C30B29/00
以材料或形状为特征的单晶或具有一定结构的均匀多晶材料
C30B29/10
无机化合物或组合物
C30B29/38
氮化物
法律状态
2022-04-22 ：
授权
2020-05-29 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C30B 29/38
申请日 : 20180703
申请日 : 20180703
2020-05-01 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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