光刻机

授权

摘要

本实用新型公开光刻机。一种光刻机，包括，浮动连接于机架的光刻板，载物部能够相对于光刻板运动使载物部上的硅片贴合于光刻板；一种光刻机，光刻板浮动连接于机架；载物部设置有第二密封部，所述第二密封部环绕硅片设置；载物部运动使硅片贴合于光刻板时，所述第二密封部与光刻板之间形成真空吸附区域，所述硅片容纳于所述真空吸附区域；通过在光刻板于硅片之间形成真空使光刻板贴合于硅片，从而保证硅片与光刻板之间紧密贴合，保证了对硅片光刻的位置精度。

基本信息

专利标题：

光刻机

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN201922063585.2

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2019-11-26

授权号：

CN211123620U

授权日：

2020-07-28

发明人：

林生财刘振辉王胜利

申请人：

矽电半导体设备（深圳）股份有限公司

申请人地址：

广东省深圳市龙岗区龙城街道黄阁坑社区龙城工业园3号厂房三楼东区、五楼中西区

代理机构：

代理人：

优先权：

CN201922063585.2

主分类号：

G03F7/20

IPC分类号：

G03F7/20