本发明涉及借助于曝光装置(11)对光敏记录介质(14)进行曝光的方法，该曝光装置(11)包括：处理室(35)中的至少一个曝光头(16)，用于对记录介质(14)进行曝光；至少一个支撑件(12)，至少一个记录介质(14)被定位在该至少一个支撑件上并随后被插入处理室(35)中；至少一个图像捕获设备(25)，该至少一个图像捕获设备(25)在记录介质(14)的插入方向上被布置在所述至少一个曝光头(16)的上游；以及控制器(27)，该控制器对记录介质(14)的实际定位和/或实际位置进行捕获或者对记录介质(14)上的至少一个表示(21)的实际定位和/或实际位置进行捕获，并且根据记录介质(14)的存储目标定位对至少一个曝光头(16)进行控制以用于曝光；以及支撑件(12)是连续的传送带(32)，至少一个记录介质(14)放置在传送带(32)上，借助于传送带(32)将至少一个记录介质(14)从处理室(35)外部的装载站(41)至少移入处理室(35)；以及至少一个第一真空室(43)在装载站(41)中与传送带(32)相关联，并且至少一个第二真空室(44)在处理室(35)中与传送带相关联，借助于控制器对该第一真空室和该第二真空室进行单独地控制。