光敏曝光材料的曝光方法和装置
专利申请的视为撤回
摘要
一种在隔光箱(2)中对光敏曝光材料(1)曝光的方法，曝光材料(1)位于一与中央纵轴(4)等距的圆弧形面(3)上，激光器(5)的激光光束(6)由可旋转的反射镜(9)导向成光束(10)以逐点信号作为曝光斑对曝光材料(1)曝光。为了使记录速度加倍或使处理图象或文字原稿的时间减半，建议将从准直光管(8)轴平行射出的光束(10)导向到至少两个与中央纵轴(4)成一角度(11)设置的反射面(12a，12b)上，其反射的平行光(10)在镜组(13)中聚焦并沿径向旋转地投向曝光材料表面(1a)的聚焦面(14)。
基本信息
专利标题 ：
光敏曝光材料的曝光方法和装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1079309A
申请号 ：
CN93100207.9
公开（公告）日 ：
1993-12-08
申请日 ：
1993-01-07
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
豪斯特·罗比
申请人 ：
曼内斯曼股份公司
申请人地址 ：
联邦德国杜塞尔多夫
代理机构 ：
中国国际贸易促进委员会专利代理部
代理人 ：
李永波
优先权 ：
CN93100207.9
主分类号 ：
G02B26/10
IPC分类号 ：
G02B26/10 B41B21/24 B41J2/47 B41J2/455
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B26/00
利用可移动的或可变形的光学元件控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的光学器件或装置，例如，开关、选通或调制
G02B26/08
控制光的方向
G02B26/10
扫描系统
法律状态
2000-04-05 ：
专利申请的视为撤回
1995-09-13 ：
实质审查请求的生效
1993-12-08 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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