光敏材料
专利申请的视为撤回
摘要
提供了一种光敏材料，可用于近紫外光波段(300～500nm)，其中的光敏组合物中含有敏化剂、交联剂、以及一种对光辐照曝光后能产生酸的组分。
基本信息
专利标题 ：
光敏材料
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1086023A
申请号 ：
CN92112174.1
公开（公告）日 ：
1994-04-27
申请日 ：
1992-10-21
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
洪啸吟吴兵毛应群
申请人 ：
北京化学试剂研究所;清华大学
申请人地址 ：
100022北京市东郊九龙山
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN92112174.1
主分类号 ：
G03F7/038
IPC分类号 ：
G03F7/038
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/004
感光材料
G03F7/038
高分子化合物被制备成不溶解的或非均匀可湿的
法律状态
1996-08-14 ：
专利申请的视为撤回
1994-04-27 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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