负性聚酰亚胺光敏材料及其制备方法
专利权的终止
摘要
本发明公开了下式所示的一类负性聚酰亚胺光敏材料及其制备方法。该聚酰亚胺光敏材料以2，4－二羟基间苯二胺盐酸盐，二胺单体和二酸酐为原料进行聚合，得到分子链上含羟基的聚酰亚胺，然后使羟基与丙烯酸及其衍生物的酰氯发生酯化反应，得到具有负性感光性能的聚酰亚胺光敏材料。这类负性聚酰亚胺光敏材料具有高的光敏性和分辨率，良好的热性能和有机溶解性，在航空、微电子等领域有着广泛的应用前景。
基本信息
专利标题 ：
负性聚酰亚胺光敏材料及其制备方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1793200A
申请号 ：
CN200510110435.2
公开（公告）日 ：
2006-06-28
申请日 ：
2005-11-17
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
姜学松李浩印杰
申请人 ：
上海交通大学
申请人地址 ：
200240上海市闵行区东川路800号
代理机构 ：
上海交达专利事务所
代理人 ：
罗荫培
优先权 ：
CN200510110435.2
主分类号 ：
C08G73/10
IPC分类号 ：
C08G73/10
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C08
有机高分子化合物；其制备或化学加工；以其为基料的组合物
C08G
用碳-碳不饱和键以外的反应得到的高分子化合物
C08G73/00
不包括在C08G12/00到C08G71/00组内的，在高分子主链中形成含氮的键合，有或没有氧或碳键合反应得到的高分子化合物
C08G73/06
在高分子主链中有含氮杂环的缩聚物；聚酰肼；聚酰胺酸或类似的聚酰亚胺母体
C08G73/10
聚酰亚胺；聚酯-酰亚胺；聚酰胺-酰亚胺；聚酰胺酸或类似的聚酰亚胺的母体
法律状态
2011-01-19 ：
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101032504236
IPC(主分类) : C08G 73/10
专利号 : ZL2005101104352
申请日 : 20051117
授权公告日 : 20070606
终止日期 : 20091217
号牌文件序号 : 101032504236
IPC(主分类) : C08G 73/10
专利号 : ZL2005101104352
申请日 : 20051117
授权公告日 : 20070606
终止日期 : 20091217
2007-06-06 ：
授权
2006-08-23 ：
实质审查的生效
2006-06-28 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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