一种聚酰亚胺基膜材料、制备方法及应用

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摘要

本发明提供了一种聚酰亚胺基膜材料、制备方法及应用。一种聚酰亚胺基膜材料，包括依次设置的，聚酰亚胺层、粘附层、抗辐照层和增透层。本发明提供的聚酰亚胺基膜材料，具有抗辐照性能、增透性能、柔性性能，可应用于柔性空间太阳能领域。相较于以超薄玻璃盖板，以聚酰亚胺基膜材料作为盖板，提升了太阳能电池的弯曲性能，且不易破损。

基本信息

专利标题：

一种聚酰亚胺基膜材料、制备方法及应用

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN112701167A

申请号：

CN202011552032.4

公开（公告）日：

2021-04-23

申请日：

2020-12-24

授权号：

CN112701167B

授权日：

2022-04-12

发明人：

魏婷婷王兵朱志超杜伟何键华

申请人：

中山德华芯片技术有限公司

申请人地址：

广东省中山市火炬开发区火炬路22号之二第3-4层

代理机构：

广州嘉权专利商标事务所有限公司

代理人：

伍传松

优先权：

CN202011552032.4

主分类号：

H01L31/0216

IPC分类号：

H01L31/0216 H01L31/041 H01L31/048 C08G73/10