自增感负性聚酰亚胺光敏材料及其制备方法

发明专利申请公布后的视为撤回

摘要

本发明公开了下式所示的一类自增感负性聚酰亚胺光敏材料及其制备方法。以2，4－二羟基间苯二胺盐酸盐，4，4’－双[(4－氨基)苯硫基]二苯甲酮和二酸酐为原料进行聚合，得到分子链上含光引发剂基团和羟基的聚酰亚胺，然后使羟基与丙烯酸及其衍生物的酰氯发生酯化反应，得到具有自增感负性感光性能的聚酰亚胺光敏材料。这类自增感负性聚酰亚胺光敏材料无需添加光引发剂体系，具有高的光敏性和分辨率，良好的热性能和有机溶解性，在航空、微电子等领域有着广泛的应用前景。

基本信息

专利标题：

自增感负性聚酰亚胺光敏材料及其制备方法

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN1794087A

申请号：

CN200610023217.X

公开（公告）日：

2006-06-28

申请日：

2006-01-12

授权号：

暂无

授权日：

暂无

发明人：

姜学松王宏宇印杰

申请人：

上海交通大学

申请人地址：

200240上海市闵行区东川路800号

代理机构：

上海交达专利事务所

代理人：

罗荫培

优先权：

CN200610023217.X

主分类号：

G03F7/004

IPC分类号：

G03F7/004 G03F7/028