一种水基显影有机硅改性光敏聚酰亚胺材料及其制备方法

专利权的终止

摘要

本发明属于一种水基显影有机硅改性光敏聚酰亚胺材料及其制备方法。采用芳香二酯二酰氯同3，5－二胺基苯甲酸、4，4′－二胺基3，3′－二羟基二苯甲烷以及4，4′－二胺基3，3′－二羟基二苯砜等单体聚合，用3－氨基丙基三乙氧基硅烷或1，3－双(3－氨基丙基)－1，1′，3，3′－四甲氧基硅烷改性，生成有机硅改性聚酰亚胺预聚物，特性粘度在0.35－0.45范围内，加入2－重氮萘醌衍生物为光敏剂，使之成为具有很高的感光性能，很好的成膜性和很好的粘结性能以及耐热性能的光敏材料。

基本信息

专利标题：

一种水基显影有机硅改性光敏聚酰亚胺材料及其制备方法

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN1794088A

申请号：

CN200510119124.2

公开（公告）日：

2006-06-28

申请日：

2005-12-28

授权号：

暂无

授权日：

暂无

发明人：

张春华杨正华朱丹阳吴作林

申请人：

中国科学院长春应用化学研究所

申请人地址：

130022吉林省长春市人民大街5625号

代理机构：

长春科宇专利代理有限责任公司

代理人：

马守忠

优先权：

CN200510119124.2

主分类号：

G03F7/037

IPC分类号：

G03F7/037 G03F7/004

IPC结构图谱

G部——物理

G03

摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术

G03F

图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备

G03F7/00

图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备

G03F7/004

感光材料

G03F7/027

具有碳—碳双键的非高分子的可光聚合的化合物，例如，乙烯化合物

G03F7/032

含有黏结剂的

G03F7/037

黏结剂是聚酰胺或聚酰亚胺

法律状态

2017-02-22 ：

专利权的终止

未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101705179238
IPC(主分类) : G03F 7/037
专利号 : ZL2005101191242
申请日 : 20051228
授权公告日 : 20090422
终止日期 : 20151228

2009-04-22 ：

授权

2006-08-23 ：

实质审查的生效

2006-06-28 ：

公开

注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。

文件下载

暂无PDF文件可下载