本发明适用于光敏剂技术领域，提供了一种具有高光敏活性的光敏剂及其制备方法。该光敏剂通过带有羟基的光敏剂前驱体和带有磺酸根阴离子的阴离子配体制备得到，所述带有羟基的光敏剂前驱体为4‑羟基二苯基碘鎓盐，所制备得到的光敏剂带有4‑羟基二苯基碘鎓阳离子基团。本发明提出的光敏剂能够有效控制算扩散范围，通过引入修饰官能团，使得光敏剂能够更好地分散于光刻胶体系内，使得在应用时，光刻图形的线宽与粗糙度更加均匀；同时，分子内添加羟基，使光之产酸剂能够拥有更小的扩散系数，可以更好地提高产酸效率，得到更高质量的光刻图形，有效解决了现有工艺制备的光敏剂在光刻胶体系内无法分散均匀等技术问题。