光刻方法
专利权的终止
摘要
描述了一种实现倍频光刻形成图案的方法。将具有第一周期(p1)的光学图案(16)用于对衬底(20)上的传统酸催化光致抗蚀剂(18)进行曝光，留下高曝光区(24)、低曝光区(26)和中间曝光区(22)。处理接着进行，留下接受高曝光的很有极性的高曝光区(24)(即，亲水性)，低曝光的很非极性的低曝光区(26)(即，疏水性)、以及具有中间极性的中间区。然后将诸如丙二醇醋酸甲乙酯之类的中间极性显影剂用于仅溶解中间区(22)，留下将要形成图案为具有光学周期(p1)一半的间距(p2)的光致抗蚀剂。替代地，从非极性区和极性区上去除光致抗蚀剂，仅留下再次具有与光学周期(p1)的一半相同的间距(p2)的中间区(22)。
基本信息
专利标题 ：
光刻方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN101137938A
申请号 ：
CN200580040129.4
公开（公告）日 ：
2008-03-05
申请日 ：
2005-11-10
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
戴维·范斯腾温克尔彼得·赞德伯根
申请人 ：
皇家飞利浦电子股份有限公司
申请人地址 ：
荷兰艾恩德霍芬
代理机构 ：
中科专利商标代理有限责任公司
代理人 ：
陈瑞丰
优先权 ：
CN200580040129.4
主分类号 ：
G03F7/30
IPC分类号 ：
G03F7/30 G03F7/32
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/26
感光材料的处理及其设备
G03F7/30
用液体消除影像的
法律状态
2019-11-05 ：
专利权的终止
未缴年费专利权终止IPC(主分类) : G03F 7/30
申请日 : 20051110
授权公告日 : 20110706
终止日期 : 20181110
申请日 : 20051110
授权公告日 : 20110706
终止日期 : 20181110
2011-07-06 ：
授权
2008-06-18 ：
专利申请权、专利权的转移(专利申请权的转移)
变更事项 : 申请人
变更前权利人 : 皇家飞利浦电子股份有限公司
变更后权利人 : NXP股份有限公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 荷兰艾恩德霍芬
变更后权利人 : 荷兰艾恩德霍芬
登记生效日 : 20080516
变更前权利人 : 皇家飞利浦电子股份有限公司
变更后权利人 : NXP股份有限公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 荷兰艾恩德霍芬
变更后权利人 : 荷兰艾恩德霍芬
登记生效日 : 20080516
2008-04-30 ：
实质审查的生效
2008-03-05 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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