确定标记测量序列的方法、平台设备和光刻设备
公开
摘要
本发明提供了一种针对包括多个标记的物体确定标记测量序列的方法，该方法包括：·接收针对要测量的多个标记的位置数据；·获取用于执行标记测量序列的定位装置的边界模型，以及·基于位置数据和边界模型来确定标记测量序列。
基本信息
专利标题 ：
确定标记测量序列的方法、平台设备和光刻设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114270273A
申请号 ：
CN202080055006.2
公开（公告）日 ：
2022-04-01
申请日 ：
2020-07-16
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
I·纳吉O·杜曼A·吉耶斯贝特森P·J·赫雷斯R·M·赫尔曼E·詹森T·A·马塔尔N·J·M·范登纽韦拉尔P·F·范吉尔斯
申请人 ：
ASML荷兰有限公司
申请人地址 ：
荷兰维德霍温
代理机构 ：
北京市金杜律师事务所
代理人 ：
赵林琳
优先权 ：
CN202080055006.2
主分类号 ：
G03F9/00
IPC分类号 ：
G03F9/00 G01B11/02
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F9/00
原版、蒙片、片框、照片、图纹表面的对准或定位，例如自动地
法律状态
2022-04-01 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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