一种用于曝光装置的对准标记及其对准方法
实质审查的生效
摘要

本发明提供用于曝光装置的对准标记系统,第一对准区域包括第一多边形和第二多边形对准后得到宽为f的第一通道;第一多边形与第二多边形为相似多边形且半径相差f;相似多边形边数为偶数2n,且n为3‑6;第二对准区域包括由矩形对准标记和内嵌对准标记对准得到的宽为f的第二通道;矩形对准标记的宽为a,高为b;内嵌对准标记包括横部区域和竖部区域,横部区域包括宽为c,厚为d的第一矩形,竖部区域包括宽为e,高为g的第二矩形,c=a,g=b,e=a‑2f;从而使得对准后得到宽度为f的第二通道。本发明还提供自动对准方法和一种曝光装置。本发明可以实现掩模版和曝光对象之间的快速对准,并同时可用于手动曝光机和自动曝光机。

基本信息
专利标题 :
一种用于曝光装置的对准标记及其对准方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114326332A
申请号 :
CN202210106246.1
公开(公告)日 :
2022-04-12
申请日 :
2022-01-28
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
闫波
申请人 :
魅杰光电科技(上海)有限公司
申请人地址 :
上海市浦东新区中国(上海)自由贸易试验区临港新片区海洋一路333号1号楼、2号楼
代理机构 :
北京清大紫荆知识产权代理有限公司
代理人 :
黎飞鸿
优先权 :
CN202210106246.1
主分类号 :
G03F7/20
IPC分类号 :
G03F7/20  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-04-29 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/20
申请日 : 20220128
2022-04-12 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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