本实用新型公开了一种晶圆双面曝光对准标记位置测量仪器，包括放置平台，放置平台一侧安装有左卧式显微镜安装架，左卧式显微镜安装架上安装左卧式显微镜，放置平台另一侧安装右卧式显微镜安装架，右卧式显微镜安装架上安装右卧式显微镜，左卧式显微镜一侧安装左CCD相机，右卧式显微镜一侧安装右CCD相机，放置平台上还安装有支撑架，支撑架上安装有测量平台，测量平台上放置的透明型测量标尺，支撑架设置在放置平台中部，本实用新型结构设计新颖，可有效、便捷的检测出市面上双向功率器件产品在加工过程中正反两面曝光位置的一致性，有效的控制各晶圆厂因曝光位置不一导致的产品报废、低良率，最终达到提高双向曝光产品良率的目的。