位置测量方法、位置控制方法、测量方法、装载方法、曝光方法...
专利权的终止
摘要

能管理位置测量用标记未存在的移动体的位置。将以可拆装方式搭载既定形状的板件(50)的移动体(WST)的位置,以供界定其移动坐标系统的测量装置(18等)来测量,并以对准系统(ALG)检测板件(50)的一部分,根据其检测结果与对应的该测量装置的测量结果,来取得板件(50)外周边缘的位置资讯。据此,即使于该移动体(WST)上位置测量用的标记(基准标记)等未存在,仍可根据板件外周边缘的位置资讯,在以该测量装置所界定的移动坐标系统上管理板件的位置,亦即移动体的位置。

基本信息
专利标题 :
位置测量方法、位置控制方法、测量方法、装载方法、曝光方法及曝光装置、及元件制造方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN101057316A
申请号 :
CN200580038725.9
公开(公告)日 :
2007-10-17
申请日 :
2005-11-18
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
安田雅彦杉原太郎
申请人 :
尼康股份有限公司
申请人地址 :
日本东京都
代理机构 :
北京中原华和知识产权代理有限责任公司
代理人 :
寿宁
优先权 :
CN200580038725.9
主分类号 :
H01L21/027
IPC分类号 :
H01L21/027  G01B11/00  G03F7/20  H01L21/68  
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IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/02
半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21/027
未在H01L21/18或H01L21/34组中包含的为进一步的光刻工艺在半导体之上制作掩膜
法律状态
2020-10-30 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止IPC(主分类) : H01L 21/027
申请日 : 20051118
授权公告日 : 20130306
终止日期 : 20191118
2013-03-06 :
授权
2007-12-12 :
实质审查的生效
2007-10-17 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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