曝光机机差的测量方法
发明专利申请公布后的视为撤回
摘要
一种曝光机机差的测量方法，此方法通过将一对预先制作的匹配光掩模及匹配晶片分别配置在两个机器中进行曝光，并将两个机器曝光所得的曝光图像相减，而消除该匹配光掩模及匹配晶片本身所造成的误差，从而获得两机器间更准确的机差值，达到有效掌控机器间变化的目的。
基本信息
专利标题 ：
曝光机机差的测量方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN101004554A
申请号 ：
CN200610005895.3
公开（公告）日 ：
2007-07-25
申请日 ：
2006-01-19
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
林柏青
申请人 ：
力晶半导体股份有限公司
申请人地址 ：
中国台湾新竹市
代理机构 ：
北京市柳沈律师事务所
代理人 ：
陶凤波
优先权 ：
CN200610005895.3
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2009-11-18 ：
发明专利申请公布后的视为撤回
2007-09-19 ：
实质审查的生效
2007-07-25 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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