一种曝光机真空曝光室
授权
摘要
本实用新型公开了一种曝光机真空曝光室，包括机箱，所述机箱的底端外壁固定连接有基座，且机箱的顶部外壁固定连接有曝光仓，所述曝光仓的一侧外壁对称设有室门，且曝光仓的顶部外壁固定连接有上盖板，所述曝光仓的两侧外壁中部均设有连接仓门，且连接仓门的上方固定连接有电控箱，所述机箱的内壁中部上设有内曝光箱，且机箱的四侧内壁均固定连接有调节电机。本实用新型的内部设有多个真空度检测器，用于检测室腔内的真空环境度，提高曝光室中的曝光效果受到的影响最小，中部曝光灯和四边的边投射曝光灯配合，同时边部曝光灯通过边聚光组件作用，提高曝光面板的投射效果，电机调节实现曝光面板的投光角度和效果，提升曝光平面效果。
基本信息
专利标题 ：
一种曝光机真空曝光室
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021457739.2
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-07-22
授权号 ：
CN212229414U
授权日 ：
2020-12-25
发明人 ：
杨中
申请人 ：
深圳德尚自动化设备有限公司
申请人地址 ：
广东省深圳市宝安区福海街道桥头社区灶下路74号602
代理机构 ：
深圳市鼎智专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
汤银
优先权 ：
CN202021457739.2
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2020-12-25 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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