一种LED曝光机真空结构
专利权的终止
摘要
本实用新型是一种LED曝光机真空结构，该真空结构包括抽真空组件，所述抽真空组件包括腔体上盖、真空膜和腔体下盖，所述真空膜覆盖在腔体上盖后与腔体下盖形成真空空腔，其特征在于，该抽真空组件上还设置有凸台，所述凸台设置在腔体上盖与真空膜之间，所述真空膜与腔体下盖围合时压缩真空空腔。通过凸台的设计使真空膜压缩真空空腔，减少腔体上盖与腔体下盖之间的距离，使真空空腔体积减少，加快真空结构真空处理的效率，提高了曝光机的工作效率。
基本信息
专利标题 ：
一种LED曝光机真空结构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921081221.0
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-07-10
授权号 ：
CN210428086U
授权日 ：
2020-04-28
发明人 ：
赖日阳赖华明王百年
申请人 ：
深圳市格意特智能装备有限公司
申请人地址 ：
广东省深圳市宝安区福海街道和平社区桥和路明华工艺制品厂厂房整套2栋1楼B
代理机构 ：
深圳市神州联合知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
周松强
优先权 ：
CN201921081221.0
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2021-07-06 ：
专利权的终止
未缴年费专利权终止IPC(主分类) : G03F 7/20
申请日 : 20190710
授权公告日 : 20200428
终止日期 : 20200710
申请日 : 20190710
授权公告日 : 20200428
终止日期 : 20200710
2020-04-28 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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