一种三真空腔曝光夹具
授权
摘要
本实用新型公开了一种三真空腔曝光夹具，由母板组装件和基片组装件通过重载合页连接，母板组装件包括母板底座、卡板座、限位压块、吸附胶块和母板，母板底座的内侧依次设有卡板座、限位压块，限位压块内侧与所述母板底座之间的空间形成真空腔Ⅰ，母板底座上开设有与真空腔Ⅰ相连通的真空口Ⅰ，限位压块上开设有凹槽，凹槽上垫设有吸附胶块，所述吸附胶块上方设有母板；基片组装件的结构原理与母板组装件类似，母板与基片在重载合页合上时形成真空腔Ⅲ，母板底座上开设有与真空腔Ⅲ相连通的真空口Ⅲ。本实用新型提供的一种三真空腔曝光夹具，能有效、快速地实现母板和基片的上料、下料和对准。
基本信息
专利标题 ：
一种三真空腔曝光夹具
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021515079.9
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-07-28
授权号 ：
CN212623569U
授权日 ：
2021-02-26
发明人 ：
郭翔宇
申请人 ：
长沙迈博光电有限公司
申请人地址 ：
湖南省长沙市经济技术开发区星沙产业基地蓝田北路1号梦工厂工业配套园A4栋107室
代理机构 ：
安化县梅山专利事务所
代理人 ：
潘访华
优先权 ：
CN202021515079.9
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20 B25B11/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2021-02-26 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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