一种UV曝光机的掩膜夹具
授权
摘要

本实用新型公开了一种UV曝光机的掩膜夹具,包括UV曝光机本体,所述UV曝光机本体内设有开口,所述开口的内顶部固定连接有曝光装置,所述开口的左右内侧壁上均设有电动滑轨,两条所述电动滑轨之间设有放置板,所述放置板上设有放置槽,所述放置槽内放置有电路板,所述放置板内设有储气腔,所述储气腔内设有用于夹紧电路板的夹紧机构,所述UV曝光机本体的左侧壁上设有用于提供夹紧机构所需动力的动力机构,所述储气腔内底部固定连接有多个安装筒,多个所述安装筒内均设有用于顶起电路板的顶起机构。本实用新型结构合理,其能够进行待曝光板的柔性夹持,避免其发声损坏,同时还可以在曝光完成后进行待曝光板的顶起。

基本信息
专利标题 :
一种UV曝光机的掩膜夹具
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202022330690.0
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-10-16
授权号 :
CN213338323U
授权日 :
2021-06-01
发明人 :
赵宁隋晓平
申请人 :
烟台德合蓝新材料有限公司
申请人地址 :
山东省烟台市福山区福海路1000号北方汽车配件交易中心D1-14号
代理机构 :
青岛科通知桥知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
雷丽
优先权 :
CN202022330690.0
主分类号 :
G03F7/20
IPC分类号 :
G03F7/20  
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2021-06-01 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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