可曝光成像的焊接掩膜涂料
专利权的终止未缴年费专利权终止
摘要
介绍了一种紫外线光敏涂料组合物，它是一种由二异氰酸酯、羟烷基(二或三)(甲基)丙烯酯与羧酸多羟基化合物的缩合反应制备的聚合物。也可选择使用一种多羟基化合物和/或一种二元羧酸多羟基化合物作为反应剂。由此制备的涂料聚合物也可与粘合剂和交联剂相混合。
基本信息
专利标题 ：
可曝光成像的焊接掩膜涂料
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN87107321A
申请号 ：
CN87107321.8
公开（公告）日 ：
1988-06-22
申请日 ：
1987-12-08
授权号 ：
CN1031227C
授权日 ：
1996-03-06
发明人 ：
桑格维特·赛特哈查亚农
申请人 ：
阿姆斯特朗电界工业公司
申请人地址 ：
美国宾夕法尼亚州
代理机构 ：
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
代理人 ：
任宗华
优先权 ：
CN87107321.8
主分类号 ：
G03F7/027
IPC分类号 ：
G03F7/027 G03F7/035
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/004
感光材料
G03F7/027
具有碳—碳双键的非高分子的可光聚合的化合物，例如，乙烯化合物
法律状态
2001-01-31 ：
专利权的终止未缴年费专利权终止
1996-03-06 ：
授权
1988-06-22 ：
公开
1988-06-15 ：
实质审查请求
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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