一种掩膜版用的曝光补偿装置
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摘要
本申请公开了一种掩膜版用的曝光补偿装置，包括承载板，承载板的一侧具有接触平面，用于与光刻机平台接触，承载板的另一侧具有承载面，承载面为斜面，用于承载斜面掩膜版，并垫高斜面掩膜版厚度较薄的一侧，以使斜面掩膜版远离承载板的一侧与光刻机平台平行。对掩膜版进行曝光时，光刻机镜头需要与掩膜版保持恒定的距离，以保证曝光后掩膜版的图形质量，曝光斜面掩膜版时，光刻机镜头从斜面掩膜版厚度较大的一侧运动到厚度较小的一侧时，光刻机镜头与掩膜版的距离不断变大，导致曝光后掩膜版的图形质量异常。因此，在曝光斜面掩膜版时，将斜面掩膜版放置到承载板上，使得斜面掩膜版上表面平行于光刻机平台。
基本信息
专利标题 ：
一种掩膜版用的曝光补偿装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201922098140.8
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-11-29
授权号 ：
CN210626879U
授权日 ：
2020-05-26
发明人 ：
叶小龙王栋
申请人 ：
深圳市龙图光电有限公司
申请人地址 ：
广东省深圳市宝安区沙井街道新玉路北侧圣佐治科技工业园4#厂房一楼
代理机构 ：
深圳鼎合诚知识产权代理有限公司
代理人 ：
彭家恩
优先权 ：
CN201922098140.8
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20 G03F1/76
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2020-05-26 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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