掩膜版
授权
摘要
本实用新型提供了一种掩膜版，用于对与掩膜版相对设置的基板进行加工，该掩膜版包括第一子掩膜版和第二子掩膜版，第一子掩膜版和第二子掩膜版间隔设置，并且第一子掩膜版和第二子掩膜版之间设有镂空区域，第二子掩膜版呈条状且设有多个间隔分布的缺口，第一子掩膜版和第二子掩膜版用于阻挡紫外光穿过，镂空区域与缺口用于紫外光穿过，以对基板进行加工。通过在第二子掩膜版上设置多个间隔分布的缺口，使得在剥膜过程中，条状的第二子掩膜版在被喷淋液冲击时，其在缺口处容易受到冲击力而断裂，使得第二子掩膜版分解成多个长度较短的部分，避免了第二子掩膜版因长度过长而缠绕在机台滚轮上和腔体里面，从而保证了作业效率和基板品质。
基本信息
专利标题 ：
掩膜版
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021706188.9
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-08-14
授权号 ：
CN213069470U
授权日 ：
2021-04-27
发明人 ：
江峰严宋卿
申请人 ：
南昌欧菲显示科技有限公司
申请人地址 ：
江西省南昌市昌北经济开发区黄家湖西路欧菲光科技园
代理机构 ：
广州三环专利商标代理有限公司
代理人 ：
熊永强
优先权 ：
CN202021706188.9
主分类号 ：
G03F1/60
IPC分类号 ：
G03F1/60 G03F1/62
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1/00
用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1/60
基板
法律状态
2021-04-27 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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