一种光刻板
授权
摘要
本实用新型公开了一种光刻板，本实用新型的光刻板由母板和子板两部分组成，光刻图形设置在子板上，操作人员把持母板，将光刻板安装入光刻机进行光刻工艺，由于子板的厚度高于堆胶的高度，所以可以有效避免堆胶对光刻的影响，从而有效解决现有技术中因堆胶导致的光刻图形失真的问题。
基本信息
专利标题 ：
一种光刻板
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201920861864.0
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-06-10
授权号 ：
CN209962088U
授权日 ：
2020-01-17
发明人 ：
张轶刘世光李春领
申请人 ：
中国电子科技集团公司第十一研究所
申请人地址 ：
北京市朝阳区酒仙桥路4号
代理机构 ：
工业和信息化部电子专利中心
代理人 ：
张然
优先权 ：
CN201920861864.0
主分类号 ：
G03F1/60
IPC分类号 ：
G03F1/60
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1/00
用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1/60
基板
法律状态
2020-01-17 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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