一种掩膜版、掩膜版系统及制备、光刻方法

授权

摘要

本发明提供一种掩膜版、掩膜版系统及制备、光刻方法，该掩膜版包括：基板、以及层叠设置于基板上的至少两层掩膜层；每层掩膜层包括透光区和遮挡区，每层掩膜层的遮挡区设置为遮挡不同波段的曝光光线以形成不同的曝光图案，每层掩膜层的透光区设置为透过该掩膜版的各波段曝光光线；可见，本方案中，能够在不翻转掩膜版的情况下，形成不同的曝光图案，既节省了成本，又简化了工艺。

基本信息

专利标题：

一种掩膜版、掩膜版系统及制备、光刻方法

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN110989288A

申请号：

CN201911328519.1

公开（公告）日：

2020-04-10

申请日：

2019-12-20

授权号：

CN110989288B

授权日：

2022-05-10

发明人：

周波黎关超刘福萌

申请人：

京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司

申请人地址：

北京市朝阳区酒仙桥路10号

代理机构：

北京风雅颂专利代理有限公司

代理人：

张聪聪

优先权：

CN201911328519.1

主分类号：

G03F1/60

IPC分类号：

G03F1/60 G03F1/68 G03F7/20