光刻机的掩膜版冷却系统

授权

摘要

本实用新型公开了一种光刻机的掩膜版冷却系统，所述光刻机包括曝光光源、光学镜头、掩膜版承载台，光学镜头位于掩膜版承载台的上方，所述系统包括：氮气冷却装置，其包括供气端、输气管和喷气管，氮气源和喷气管通过所述输气管连接，喷气管设在光学镜头的周侧且在竖直方向上位于光学镜头和掩膜版承载台之间，所述喷气管形成有多个喷气孔；水冷装置，其包括供水端、输水管和水冷管，冷水源和水冷管通过输水管连接，水冷管铺设在掩膜版承载台上且位于掩膜版和掩膜版承载台之间。本实用新型利用氮气和水对掩膜版进行冷却，利用减少掩膜版的形变，改善产品的废品率。

基本信息

专利标题：

光刻机的掩膜版冷却系统

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN201921518216.1

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2019-09-12

授权号：

CN210776182U

授权日：

2020-06-16

发明人：

骆建钢徐晓敏

申请人：

上海华力集成电路制造有限公司

申请人地址：

上海市浦东新区康桥东路298号1幢1060室

代理机构：

上海浦一知识产权代理有限公司

代理人：

栾美洁

优先权：

CN201921518216.1

主分类号：

G03F7/20

IPC分类号：

G03F7/20