本实用新型公开了一种无掩膜光刻机的激光均匀性调制装置，包括激光调节头，所述激光调节头的底部固定连有聚焦调节圈，所述聚焦调节圈的底部固定连接有聚焦头，所述激光调节头的表面套接有可以上下位移的定位罩圈。该无掩膜光刻机的激光均匀性调制装置，采用压缩空气机为进气管提供压缩空气，弹性气囊抵住定位活动齿，插入聚焦调节圈上调节圆环表面的凹槽内部，由于压缩空气突然的连通，多个定位活动齿基本等同于同时插入凹槽，因此在插入的过程中调节圆环不产生位移，该光刻机头在位移时，调好的聚焦镜片组不会松动，激光束始终保持一个焦点，从而避免降低光刻精度，该定位罩圈采用上下滑动的方式，便于下次调节聚焦大小，同时也便于固定。