掩膜装置
授权
摘要

本实用新型涉及显示面板曝光技术领域,公开了一种掩膜装置,解决了无需取下掩膜架,则可实现掩膜板的直接更换。本实用新型包括:掩膜架,设有用于吸附待加工件的真空吸附孔;框架,与所述掩膜架转动连接,使所述掩膜架在所述框架内翻转。本实用新型利用掩膜架与框架的转动连接,可使掩膜架直接在框架上实现翻转,则在更换待加工件时,无需将掩膜架取下,只要翻转掩膜架,即可在框架上对待加工件进行更换,不仅简化了待加工件更换的操作流程,同时还可避免对掩膜架造成污染,避免了影响成品质量,从而提高了成品合格率。

基本信息
专利标题 :
掩膜装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201921634873.2
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-09-27
授权号 :
CN210514931U
授权日 :
2020-05-12
发明人 :
王乡
申请人 :
珠海迈时光电科技有限公司
申请人地址 :
广东省珠海市香洲区南屏科技工业园屏东六路1号9号楼第二层205、206房
代理机构 :
广州嘉权专利商标事务所有限公司
代理人 :
叶琦炜
优先权 :
CN201921634873.2
主分类号 :
G03F1/64
IPC分类号 :
G03F1/64  
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1/00
用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1/62
薄膜或薄膜集合,例如在支持框架上具有薄膜;其制备
G03F1/64
以框架为特征的,例如其结构或材料
法律状态
2020-05-12 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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